Industry

High-NA EUV量産へ、マスク各社が認証取得と生産準備を加速

ASMLの次世代露光装置「High-NA EUV」の量産導入が2028年以降に本格化する見通しとなり、マスク各社が認証取得と生産体制の整備を急いでいる。EUV素材で日本勢が強い市場にも新規参入の動きが出始めた。

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Intel、米オハイオ新工場で初の主要トラス据え付け　完成目標は2030年に

Intelは米オハイオ州ニューオールバニーの新工場で初の主要トラスを据え付け、建設を次の段階に進めた。完成目標は2030年に後ずれしており、採算化には外部顧客の獲得が欠かせない。