の検索結果 露光装置
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SK hynix、NasdaqにADR上場 最大280億ドルを調達へ
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SK hynix、ナスダックADR上場へ 45兆ウォン規模を調達
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ASML、4億ドルの「ハイNA」EUV出荷開始 Intelが先行採用
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米政府、中国にASML製EUV装置の可能性を指摘 ASMLは否定
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Huawei「Tauスケーリング」に中国EDA各社が対応 量産実装は4〜5年先
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中国PRINANO、ASML製DUV露光装置使わずフォトニックチップ向け8インチウエハー生産
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Huawei、2031年に1.4ナノ相当目標 新設計原理を打ち出す
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中国CXMT、HBM3量産を急ぐ 韓国勢の下位製品の収益に圧力
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ASML、2026年売上高見通しを上方修正 AI投資追い風で装置需要拡大
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米議会、中国向け半導体装置規制を法制化へ ASMLの浸漬型DUVも対象
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ASML、Mistral AIを選定 半導体業界で広がる「社内特化AI」
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SK hynix、ASML KoreaとEUVスキャナー購入契約 総額約12兆ウォン
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HBM拡大でFOUPに脚光 洗浄・湿度制御装置の需要増
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ASML Korea、華城に統合研修拠点を開所
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半導体装置各社、テストチップ体制を強化 事前実証が受注の前提に