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Samsung Electronics、ASML主導コンソーシアムに参加　12インチフォトマスク共同開発へ

Samsung Electronicsは8日、ASML主導の「大判マスク・コンソーシアム」への参加を発表した。次世代の12インチフォトマスクを共同開発し、2028年までに先端DRAMの製造工程へHigh NA EUVを導入する方針だ。

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Samsung Electronics、HBM垂直積層の「zHBM」構想　2028年の一般市場を視野

Samsung Electronicsは9月8日、AIアクセラレータ直上にHBMを積層する「zHBM」構想を明らかにした。インターポーザーを使わず、帯域幅はHBM4E比で230%向上、消費電力は70%削減を目指す。業界では量産は2028〜2029年との見方が出ている。