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中国PRINANO、ASML製DUV露光装置使わずフォトニックチップ向け8インチウエハー生産

中国の半導体装置メーカーPRINANOは、ASML製DUV露光装置を使わずにフォトニックチップ向け8インチウエハーの生産に成功したと発表した。ナノインプリント技術により、コストを従来比約10分の1に抑えられるとしている。

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中国、半導体向け長期資金ファンド設立　AlibabaやCXMT系が出資

中国のテック企業と国有系投資機関が、半導体などディープテック向けの39億1000万元規模の長期資金ファンドを設立した。Alibaba系やCXMT系などが出資し、研究開発と商用化を支える。