の検索結果 DUV Industry 半導体輸出は急拡大、韓国の対中製造装置輸出は失速 韓国の半導体輸出は月間400億ドルを突破した一方、対中の半導体製造装置輸出は減少した。背景には、中国が米国の規制を受けて後工程装置の国産化を急ぎ、韓国企業の輸出余地が狭まりつつある構図がある。 Industry ASML、生産能力30％拡大へ 2026年売上高見通しを上方修正 ASMLは今後2年で生産能力を30％拡大し、2026年売上高見通しを430億〜450億ユーロに引き上げた。AI向け半導体需要を背景に、EUVとDUVの増産計画も具体化した。 Industry ASML、4億ドルの「ハイNA」EUV出荷開始 Intelが先行採用 ASMLが次世代「ハイNA」EUV露光装置の出荷を始めた。解像度は8nmで、先端半導体の微細化を後押しする。Intelが先行採用する一方、4億ドルの価格と対中規制が普及の行方を左右する。 Industry 米政府、中国にASML製EUV装置の可能性を指摘 ASMLは否定 Industry 中国PRINANO、ASML製DUV露光装置使わずフォトニックチップ向け8インチウエハー生産 Industry 米議会、中国向け半導体装置規制を法制化へ ASMLの浸漬型DUVも対象 Industry ASML Korea、華城に統合研修拠点を開所
Industry 半導体輸出は急拡大、韓国の対中製造装置輸出は失速 韓国の半導体輸出は月間400億ドルを突破した一方、対中の半導体製造装置輸出は減少した。背景には、中国が米国の規制を受けて後工程装置の国産化を急ぎ、韓国企業の輸出余地が狭まりつつある構図がある。
Industry ASML、生産能力30％拡大へ 2026年売上高見通しを上方修正 ASMLは今後2年で生産能力を30％拡大し、2026年売上高見通しを430億〜450億ユーロに引き上げた。AI向け半導体需要を背景に、EUVとDUVの増産計画も具体化した。
Industry ASML、4億ドルの「ハイNA」EUV出荷開始 Intelが先行採用 ASMLが次世代「ハイNA」EUV露光装置の出荷を始めた。解像度は8nmで、先端半導体の微細化を後押しする。Intelが先行採用する一方、4億ドルの価格と対中規制が普及の行方を左右する。
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