Industry

中国PRINANO、ASML製DUV露光装置使わずフォトニックチップ向け8インチウエハー生産

中国の半導体装置メーカーPRINANOは、ASML製DUV露光装置を使わずにフォトニックチップ向け8インチウエハーの生産に成功したと発表した。ナノインプリント技術により、コストを従来比約10分の1に抑えられるとしている。

Industry

台湾、中国向けAIチップ規制を全面拡大へ　全顧客対象で検討

台湾が、中国向けAIチップの輸出規制を全顧客対象に広げる案を検討している。特定企業向け規制にとどまらず、AIサーバーの密輸に刑事罰を科す枠組みも視野に入れる。