Industry

中国Yuanjiyue、2次元半導体の8インチ試作ライン計画公表　EUV不要で2029年に5nm級目標

中国の半導体スタートアップYuanjiyueは、2次元半導体の8インチ試作ライン構築計画を公表した。EUV露光装置を使わず、2029年までに5ナノメートル級性能の実現を目指す。

Industry

ZEISS、韓国・龍仁に半導体イノベーションセンター開設

ZEISSは7月10日、韓国・龍仁に半導体事業部初のグローバル拠点「ZEISS Semiconductor Innovation Center」を開設した。フォトマスク関連や高精度計測・検査の各ソリューションを通じ、現地顧客の量産導入と先端パッケージ開発を支援する。