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HBM拡大でFOUPに脚光　洗浄・湿度制御装置の需要増

メモリ半導体の工程長期化で、FOUPの汚染・湿度管理が歩留まりを左右する要素として重要性を増している。HBMではウエハー滞留が100日超に及ぶケースもあり、関連装置メーカーの受注が拡大している。

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ISTE、SK hynixからFOUP Cleaner装置を追加受注

ISTEは2月20日、SK hynixからFOUP Cleaner装置を追加受注したと発表した。清州新工場の新ラインと利川工場の追加投資向けで、1月以降の累計受注額は前年同期比300％超増となった。