の検索結果 High NA EUV
Industry
Micron、4F² DRAMの採用見送り 6F²改良と3D化を優先
Micronは、約20年にわたり研究してきた4F² DRAMの製品採用を見送る。工程の複雑化やコスト増、微細化の限界を踏まえ、当面は6F²の改良と将来の3D DRAMを軸に開発を進める。
Industry
Samsung Electronics、ASML主導コンソーシアムに参加 12インチフォトマスク共同開発へ
Samsung Electronicsは8日、ASML主導の「大判マスク・コンソーシアム」への参加を発表した。次世代の12インチフォトマスクを共同開発し、2028年までに先端DRAMの製造工程へHigh NA EUVを導入する方針だ。
Industry
IBMとLam Research、5年契約で1nm未満プロセス開発を加速
IBMとLam Researchは5年間の協業契約を締結し、1nm未満の半導体プロセス開発を進める。新材料開発や製造工程の革新、High-NA EUV対応を通じ、次世代ロジック開発の加速を狙う。
