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Industry
HBM拡大でFOUPに脚光 洗浄・湿度制御装置の需要増
メモリ半導体の工程長期化で、FOUPの汚染・湿度管理が歩留まりを左右する要素として重要性を増している。HBMではウエハー滞留が100日超に及ぶケースもあり、関連装置メーカーの受注が拡大している。
Industry
Semicon Korea 2026、歩留まり確保が焦点 HBM4・2ナノ量産前に検査・計測装置へ関心
ソウルで開幕したSemicon Korea 2026では、HBM4と2ナノ工程の量産をにらみ、歩留まり確保が最大のテーマに浮上した。会場では検査・計測装置各社の技術展示に来場者の関心が集まった。
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Justem、SEMICON Koreaで湿度制御の新製品「JDS」披露
Justemは、SEMICON Korea 2026でEFEM・FOUPの湿度・温度を同時制御する新製品「JDS」を披露する。既存製品のJFSや新ソリューションJPBも展示し、2026年下期の発売を目指す。
