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High-NA EUV量产导入日程渐明,韩国光罩材料厂商加快认证与扩产
随着ASML High-NA EUV量产导入时间表逐步明朗,光罩产业链正加快技术验证和产能筹备。SEMI数据显示,EUV光罩在整体光罩市场中的占比持续提升,但空白光罩等关键材料长期由日本企业主导。韩国厂商正推进EUV薄膜和空白光罩认证,争取切入新一轮供应链。
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Micron不再推进4F² DRAM量产,转向6F²迭代与3D DRAM
Micron已决定不将研究近20年的4F² DRAM导入实际产品。公司认为,该架构在工艺复杂度、制造成本以及先进制程下的持续微缩能力方面难以满足量产要求,因此将继续沿6F²路线推进DRAM迭代,并将3D DRAM视为长期替代方向。按规划,Micron的1δ节点目标于2027年下半年进入量产。
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AI芯片需求升温,ASML称2027至2028年产能或难满足订单
随着AI芯片投资持续升温,ASML表示,按照现有扩产规划,2027年和2028年的设备供应或仍难以满足市场需求,部分客户已提前关注2029年和2030年的交付。公司计划到2027年将Low-NA EUV和DUV浸没式光刻机产能较2026年提升约30%,并评估2028年进一步扩产的可行性。
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CXMT公布下一代DRAM研发进展 全球存储股承压
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TSMC受AI需求提振 第三季度营收创历史新高
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研究报告:若浸没式DUVi持续对华出口,美国及盟友AI芯片优势或在5至10年内缩小甚至消失
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AI芯片大型化推动封装转向面板级:圆形晶圆让位方形面板
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AI & Enterprise
Mistral AI完成30亿欧元D轮融资,估值升至210亿欧元以上;ASML扩大高NA EUV合作
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Telecommunications & Media
Huawei发布Mate XT 2 三折叠屏手机:首发麒麟9050 Pro、预装HarmonyOS 7
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Samsung Electronics加入ASML“大型掩膜联盟” 最早2028年在先进DRAM工艺中导入High NA EUV
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韩国半导体扩产推高用水需求 超纯水与回用设施成投资前置条件
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Industry
AMAT:AI芯片瓶颈不在算力,在数据移动,3D微缩成关键路径
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Samyang NC Chem今年上半年营收787亿韩元 营业利润增长38%
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中国国企传启动浸没式DUV光刻机生产,ASML及半导体设备股走低
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韩国半导体出口创月度新高 对华半导体设备出口回落
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ASML上调2026年营收指引至430亿至450亿欧元 未来两年产能拟提升30%
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Yuanjiwei发布2D半导体8英寸试产线规划:2029年前瞄准不依赖EUV设备实现5nm级性能
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SK hynix在纳斯达克挂牌ADR今起交易 拟募资最高约280亿美元加码资本开支