美国方面近日对ASML极紫外（EUV）光刻设备可能已进入中国提出质疑。不过，ASML随即否认相关说法，称中国境内并不存在EUV整机。

据TechCrunch 6月19日（当地时间）报道，ASML在一份声明中强调：“EUV设备从未在中国出现过”，以回应美国方面的相关关切。

这场争议的起点，是美国商务部长Howard Lutnick与ASML管理层会面后传出的信息。按照美方说法，其掌握的线索显示，与EUV相关的部件及运输设备可能曾被运往中国，但并未公开能够证明中国境内存在完整EUV设备的证据。对于“中国是否存在EUV设备”的询问，美国商务部也没有给出明确答复。

之所以引发高度关注，关键在于EUV在先进制程中的战略地位。业内普遍认为，EUV是3纳米及以下先进半导体量产的核心设备。目前，全球唯一具备EUV光刻机生产能力的企业是ASML。TSMC的先进芯片制造，以及Nvidia、Apple最新一代AI和移动芯片，均依赖ASML的EUV设备。

业内人士指出，如果EUV设备确实流入中国，可能对美国多年来构建的对华半导体出口管制体系造成冲击。自特朗普第一任期以来，美国与荷兰政府持续协作，实际上已阻止ASML向中国出口EUV设备。

对此，ASML CEO Christophe Fouquet予以强烈否认。他表示，ASML能够追踪迄今为止所有已交付EUV设备的流向，这些设备目前要么正在客户工厂运行，要么已回收至公司。与此同时，ASML对EUV核心技术、技术文件和培训资料设置了严格的访问权限，并对中国本地员工接触相关信息实施严格限制。

从技术角度看，ASML也认为中国短期内难以获得或复制EUV。Christophe Fouquet表示，ASML的EUV技术建立在数十年的持续积累之上，仅核心EUV光源的研发就用了20年时间。他还称，在无法接触实机的情况下，逆向工程同样难度极高。

从商业层面看，冒险走私EUV设备的动机也并不强。ASML目前仍向中国销售较旧的深紫外（DUV）光刻设备。公司称，这属于在不触及最先进技术前提下开展的合规销售。

ASML预计，2026年约20%的总营收将来自中国市场。一旦被认定违反EUV出口限制，公司不仅在中国市场的收入将受到冲击，全球业务及市场地位也可能受损。因此，ASML方面认为，EUV设备非法流入中国的可能性较低。

不过，在美方尚未公开证据的情况下，围绕这一问题的分歧并未消除。美国方面的说法与ASML的解释目前仍存在明显落差。

与此同时，美国也在加快布局下一代光刻相关技术。美国商务部去年底宣布，计划向开发下一代光源技术的初创公司xLight提供最高1.5亿美元支持。业内认为，这一路线长期可能对ASML的EUV技术形成挑战。

此外，美国国会也在推动跨党派法案，拟将对华出口限制从EUV进一步扩大至DUV设备。该法案已于今年4月通过关键委员会审议。

当前市场关注的焦点集中在两方面：一是美国政府是否会披露更多证据，二是对华半导体出口管制是否将进一步收紧。