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PRINANO称无需ASML DUV即可制造8英寸光子芯片晶圆，成本降至约十分之一

中国半导体设备企业PRINANO宣布，借助自研纳米压印光刻（NIL）技术，已完成8英寸光子芯片晶圆制造，且无需使用ASML的DUV光刻设备。公司称相关制造成本可降至传统方案的约十分之一，不过良率、产能及量产进度等关键数据尚未公开，其商业化可行性仍需更多数据验证。

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中国酝酿低价小型电动车新标准 参考日本轻型车体系

中国汽车行业正酝酿建立低价小型电动车新标准，拟将面向农村及老年用户的低价车型纳入规范监管。在提振内需的同时，此举也被视为有助于形成统一安全标准，为东南亚、印度等新兴市场出口提供支撑。