Industry

AI芯片需求升温，ASML称2027至2028年产能或难满足订单

随着AI芯片投资持续升温，ASML表示，按照现有扩产规划，2027年和2028年的设备供应或仍难以满足市场需求，部分客户已提前关注2029年和2030年的交付。公司计划到2027年将Low-NA EUV和DUV浸没式光刻机产能较2026年提升约30%，并评估2028年进一步扩产的可行性。

Industry

研究报告：若浸没式DUVi持续对华出口，美国及盟友AI芯片优势或在5至10年内缩小甚至消失

美国一家AI与半导体政策研究机构指出，若浸没式DUVi深紫外光刻机继续出口至中国，美国及其盟友在AI芯片领域的领先优势可能在未来5至10年内明显收窄，甚至消失。报告建议原则上停止DUVi对华出口，并收紧许可制度；同时警惕经第三国绕道获取设备的情况，必要时通过FDPR等措施进一步封堵。