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AI芯片需求升温，ASML称2027至2028年产能或难满足订单
随着AI芯片投资持续升温，ASML表示，按照现有扩产规划，2027年和2028年的设备供应或仍难以满足市场需求，部分客户已提前关注2029年和2030年的交付。公司计划到2027年将Low-NA EUV和DUV浸没式光刻机产能较2026年提升约30%，并评估2028年进一步扩产的可行性。
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研究报告：若浸没式DUVi持续对华出口，美国及盟友AI芯片优势或在5至10年内缩小甚至消失
美国一家AI与半导体政策研究机构指出，若浸没式DUVi深紫外光刻机继续出口至中国，美国及其盟友在AI芯片领域的领先优势可能在未来5至10年内明显收窄，甚至消失。报告建议原则上停止DUVi对华出口，并收紧许可制度；同时警惕经第三国绕道获取设备的情况，必要时通过FDPR等措施进一步封堵。
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中国国企传启动浸没式DUV光刻机生产，ASML及半导体设备股走低
市场消息称，中国一家国有企业已启动浸没式DUV光刻机生产，后续拟向SMIC、CXMT等芯片厂商供货，今年目标产量约5台，2027年约20台。受消息影响，ASML股价当日下跌约7%，半导体设备相关个股普遍走弱。机构认为，从小批量试产到稳定量产仍有较长距离。
