搜索关键词 铜互连
Industry
Applied Materials推6款新设备,发力HBM与Chiplet良率提升
随着AI芯片带动3D堆叠需求升温,Applied Materials发布6款面向先进封装与DRAM工艺的新设备,并升级“Centura Prime”外延(Epi)系统。相关产品覆盖CMP、ECD、PECVD及电子束量测等关键环节,重点提升HBM和Chiplet制造中的工艺稳定性与良率。
Industry
Electronica Shanghai 2026开幕在即,韩国零部件厂商直面高端化考验
随着汽车智能化与电动化提速、类人机器人进入量产阶段、AI数据中心功率密度持续攀升,电力半导体、传感器、连接器及热管理等环节需求加快释放。将于7月1日至3日举行的Electronica Shanghai 2026,预计吸引超过2032家企业参展,展览面积约12万平方米,观众将超过7万人,韩国零部件企业与Fabless厂商也将集中展示相关解决方案。
Industry
HBM堆叠冲向16层以上,三大存储厂评估自HBM4起导入混合键合
随着HBM堆叠层数向16层以上演进,存储厂商正加快评估自HBM4及后续产品导入混合键合,以应对厚度控制和信号传输方面的瓶颈。受成本与良率因素影响,Advanced MR-MUF短期内仍可能继续沿用。与此同时,量产合作伙伴的选择也可能重塑TC键合与混合键合设备的供应格局。