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研究报告:若浸没式DUVi持续对华出口,美国及盟友AI芯片优势或在5至10年内缩小甚至消失

美国一家AI与半导体政策研究机构指出,若浸没式DUVi深紫外光刻机继续出口至中国,美国及其盟友在AI芯片领域的领先优势可能在未来5至10年内明显收窄,甚至消失。报告建议原则上停止DUVi对华出口,并收紧许可制度;同时警惕经第三国绕道获取设备的情况,必要时通过FDPR等措施进一步封堵。