Industry

Samsung Electronics加入ASML“大型掩膜联盟” 最早2028年在先进DRAM工艺中导入High NA EUV

Samsung Electronics宣布加入ASML主导的“大型掩膜联盟”，将推进12英寸光掩膜联合开发，并计划最早于2028年把High NA EUV用于先进DRAM工艺。公司预计此举将有助于提升生产效率、降低制造成本，同时进一步深化双方在先进存储领域的合作。

Crypto

DAXA发现4家未申报海外数字资产交易所 已提请警方调查

韩国数字资产交易所联合协商机制DAXA表示，已发现4家未依照《特定金融信息法》履行申报义务、却面向韩国用户开展业务的海外数字资产交易所，并已提请警方调查。DAXA指出，这些平台提供韩语页面、韩元换算信息及USDT奖励等服务，提醒用户注意相关交易风险。