搜索关键词 EUV光刻机
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ASML开始交付4亿美元High-NA EUV光刻机,Intel率先导入
ASML已开始向晶圆厂交付新一代High-NA EUV光刻机,单台售价达4亿美元,分辨率可达8nm,数值孔径由0.33提高至0.55。Intel已于2024年春率先在俄勒冈工厂导入首台设备并展开测试,但高昂成本以及美国主导的出口管制等因素,仍可能加剧全球先进制程能力分化。
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美方称ASML EUV相关部件或已进入中国,ASML否认中国境内存在整机
围绕ASML EUV光刻设备是否已进入中国,美国方面近日提出质疑,但未公开相关证据。ASML则明确否认中国境内存在EUV整机,并表示公司可追踪所有已交付设备的流向,同时对核心技术、技术文件及培训资料实施严格权限管理。由于EUV被视为3纳米及以下先进制程的关键设备,此事迅速引发市场关注。
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SK hynix拟向ASML Korea采购EUV设备合同 金额约12万亿韩元
SK hynix 24日公告称,公司董事会已批准与ASML Korea签署EUV设备采购合同,合同金额为69.134亿欧元,约合11.9497万亿韩元,占截至2024年末合并资产总额的9.97%。相关设备预计于2027年12月31日前完成交付,并在此后约两年内分阶段引进;实际采购金额可能因汇率变动而调整。