| 移动网页

搜索关键词 光学系统

Industry

俄罗斯初创公司推出多阴极电子束光刻方案：单片晶圆曝光有望缩至5至7分钟

俄罗斯一支开发团队公布多阴极电子束光刻方案，试图通过并行布置多个电子束发射源提升曝光效率。按其说法，单片晶圆曝光时间有望缩短至约5至7分钟，而传统单束电子束方案完成同等作业可能需要1至2周。不过，现阶段完成验证的仅是核心电子束源，距离整机集成、稳定控制及量产应用仍面临多重挑战。