Tất cả bài viết Danh sách
Industry
Samsung đặt mục tiêu ứng dụng High NA EUV vào DRAM từ 2028
Samsung Electronics cho biết đã tham gia liên minh do ASML dẫn dắt để phát triển photomask 12 inch, đồng thời đặt mục tiêu đưa High NA EUV vào quy trình sản xuất DRAM tiên tiến vào năm 2028.
Industry
ASML bàn giao máy quang khắc High-NA EUV khoảng 400 triệu USD, Intel triển khai sớm nhất
ASML đã bắt đầu bàn giao thiết bị quang khắc High-NA EUV trị giá khoảng 400 triệu USD mỗi máy. Intel là khách hàng triển khai sớm nhất, trong bối cảnh chi phí cao và các hạn chế xuất khẩu sang Trung Quốc tiếp tục phân hóa thị trường.
Industry
IBM và Lam Research ký thỏa thuận 5 năm phát triển công nghệ chế tạo chip dưới 1 nm
IBM và Lam Research vừa ký thỏa thuận hợp tác 5 năm nhằm phát triển công nghệ chế tạo chip dưới 1 nm, với trọng tâm là High-NA EUV, vật liệu mới và đổi mới quy trình tại tổ hợp công nghệ nano NY CREATES Albany.