搜索关键词 生产良率
Industry
PRINANO称无需ASML DUV即可制造8英寸光子芯片晶圆，成本降至约十分之一
中国半导体设备企业PRINANO宣布，借助自研纳米压印光刻（NIL）技术，已完成8英寸光子芯片晶圆制造，且无需使用ASML的DUV光刻设备。公司称相关制造成本可降至传统方案的约十分之一，不过良率、产能及量产进度等关键数据尚未公开，其商业化可行性仍需更多数据验证。
AI & Enterprise
韩国科学技术信息通信部紧急研判中东战事冲击，聚焦ICT供应链风险
韩国科学技术信息通信部16日与ICT相关机构及主要协会、团体召开紧急座谈会，评估中东战事对ICT产业供应链的影响。与会各方认为，战事带来的冲击已不止于物流延误，正逐步波及制造环节，原材料价格、运费和汇率波动也在持续加大企业经营压力。对此，韩国科学技术信息通信部表示，将加强供应链监测，并通过“全球ICT门户”等渠道扩大对企业的出口支持。
Industry
Hana Technology设立子公司Hana Celtron，推进脉冲充放电技术商业化
Hana Technology宣布设立专注于脉冲充放电业务的子公司Hana Celtron，专门负责相关设备和解决方案业务。公司表示，脉冲充放电技术可通过周期性调节电流，减轻电池内部应力，缩短充放电时间，并抑制枝晶形成，从而提升安全性、延长电池寿命。未来，公司还将加强与海内外客户合作，扩大专用设备生产线布局。