搜索关键词 多重曝光 Industry ASML开始交付4亿美元High-NA EUV光刻机，Intel率先导入 ASML已开始向晶圆厂交付新一代High-NA EUV光刻机，单台售价达4亿美元，分辨率可达8nm，数值孔径由0.33提高至0.55。Intel已于2024年春率先在俄勒冈工厂导入首台设备并展开测试，但高昂成本以及美国主导的出口管制等因素，仍可能加剧全球先进制程能力分化。
Industry ASML开始交付4亿美元High-NA EUV光刻机，Intel率先导入 ASML已开始向晶圆厂交付新一代High-NA EUV光刻机，单台售价达4亿美元，分辨率可达8nm，数值孔径由0.33提高至0.55。Intel已于2024年春率先在俄勒冈工厂导入首台设备并展开测试，但高昂成本以及美国主导的出口管制等因素，仍可能加剧全球先进制程能力分化。
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