Mistral AI của Pháp vừa huy động 3 tỷ euro, đưa định giá doanh nghiệp vượt 21 tỷ euro, trong khi ASML mở rộng hợp tác quang khắc tiên tiến với Samsung Electronics và TSMC. Theo Cryptopolitan ngày 8/9 (giờ địa phương), hai diễn biến này cho thấy các doanh nghiệp châu Âu đang tăng tốc để củng cố năng lực cạnh tranh trong AI và bán dẫn.

Mistral AI cho biết vòng gọi vốn Series D do Samsung Electronics dẫn dắt là thương vụ huy động vốn lớn nhất từ trước đến nay của một công ty công nghệ châu Âu. Startup mới thành lập được 3 năm này đã tăng gấp đôi định giá chỉ sau một năm.

Vòng gọi vốn có sự tham gia của Scale Up Europe Fund, PSG Equity, Advent, a16z, Nvidia, Bpifrance, Index Ventures cùng các cổ đông hiện hữu. Một quỹ do BlackRock quản lý và nguồn vốn từ Đại Công quốc Luxembourg cũng tham gia vòng này, do EQT thu xếp.

Mistral AI dự kiến sử dụng số vốn mới cho R&D, phát triển sản phẩm và mở rộng hạ tầng. CEO kiêm đồng sáng lập Arthur Mensch cho biết các tổ chức hiện muốn vận hành AI ở quy mô lớn dựa trên dữ liệu, công cụ riêng và các yêu cầu tuân thủ ngày càng cao.

Dù quy mô còn nhỏ hơn OpenAI và Anthropic, Mistral AI đang theo đuổi hướng đi khác với mô hình AI chủ quyền, cho phép khách hàng vận hành AI trên chính hạ tầng và dữ liệu của họ. Công ty cho biết hiện có hơn 125 khách hàng doanh nghiệp tại 20 quốc gia, gồm Airbus, ASML và HSBC.

CFO Johan Berikqvist nhấn mạnh năng lực cạnh tranh trong AI doanh nghiệp không chỉ được quyết định bởi quy mô. Ông cũng định vị Mistral AI ở vị trí trung gian giữa Palantir và Anthropic, đồng thời cho rằng nhu cầu vốn để phát triển mô hình của công ty không lớn bằng một số đối thủ.

Chiến lược này cũng gắn với nhu cầu từ khu vực công. Chính phủ Pháp đã chọn mô hình của Mistral AI để xây dựng công cụ dành cho công chức. Tháng 6, trong một hệ thống phục vụ cơ quan tình báo Pháp, một nhà cung cấp trong nước đã thay thế hệ thống của Palantir. Đến tháng 7, Mistral AI ký hợp đồng về năng lực tính toán với Microsoft, đồng thời thúc đẩy kế hoạch xây dựng trung tâm dữ liệu đầu tiên tại Pháp.

Ở mảng phần cứng, ASML cũng cho thấy xu hướng tương tự. Ngày 8/9, Samsung Electronics và ASML công bố mở rộng hợp tác trong lĩnh vực quang khắc High NA EUV. Samsung Electronics dự kiến triển khai thiết bị High NA của ASML cho sản xuất DRAM, hướng tới mốc 2028.

High NA nâng khẩu độ số của hệ thống thấu kính từ 0,33 lên 0,55, qua đó cho phép tạo ra các họa tiết vi mạch tinh vi hơn.

Samsung Electronics cũng tham gia liên minh chuyển đổi tiêu chuẩn photomask do ASML dẫn dắt. Liên minh này thúc đẩy ngành chuyển từ chuẩn 6 inch sang 12 inch.

Trước đó một ngày, ASML và TSMC cũng công bố kế hoạch chuyển sang chuẩn 12 inch, với mục tiêu xây dựng dây chuyền thử nghiệm vào năm 2031 và áp dụng cho sản xuất các tiến trình tiên tiến từ năm 2033. TSMC dự kiến đưa High NA vào sản xuất hàng loạt từ năm 2030.