搜索关键词 光刻胶
Industry
IBM与Lam Research扩大合作 共同推进1纳米以下制程研发
IBM与Lam Research签署为期5年的合作协议，将围绕1纳米以下制程联合开展研发。双方将依托纽约Albany Nanotech Complex的研发设施与设备，重点推进新材料、工艺创新和High-NA EUV光刻技术开发，并引入干法光刻胶、刻蚀和沉积相关技术与系统，以提升先进制程及复杂器件结构的研发能力。
Industry
2nm制程提速，日本半导体关键材料优势进一步巩固
随着2nm及以下先进制程持续推进，EUV相关关键材料需求快速增长。数据显示，在EUV光刻胶和空白掩膜等核心市场，日本企业占据九成左右份额，并在供应链不确定性加大背景下进一步强化定价与议价能力。韩国虽在推进国产替代，但在High-NA EUV等最先进环节，短期内仍难摆脱对日本材料的依赖。
Industry
QNA Technology发力无重金属蓝色量子点，瞄准QDEL商业化关键难题
随着QDEL商业化进程升温，蓝色发光材料仍是行业公认的核心瓶颈。波兰量子点企业QNA Technology正聚焦无重金属蓝色量子点布局，推出PureBlue.dots和DeepBlue.dots两条产品线，其中面向显示的PureBlue.dots外部量子效率达24%。公司同时已建成试制线，并在韩国设立办公室，寻求与当地显示产业链展开合作。
