搜索关键词 选择性刻蚀 Industry Applied Materials发布两款新设备，应对AI芯片3D制造均匀性挑战 面向AI芯片带动下不断升级的3D半导体制造需求，Applied Materials发布Centris Spectral SiN原子层沉积系统和Producer Selectra钼刻蚀系统，重点解决高深宽比结构中的沉积与刻蚀均匀性问题，以降低器件性能与良率风险。 Industry KAIST开发原子级表面调控技术 InP魔法尺寸纳米晶发光效率升至18.1% KAIST新材料工程系研究团队开发出一项针对磷化铟（InP）魔法尺寸纳米晶的原子级表面调控技术，通过选择性刻蚀与表面稳定化处理，将其发光效率从不足1%提升至18.1%。KAIST表示，该成果处于相关领域国际领先水平之列，未来可用于下一代显示、量子通信和红外传感等方向。
Industry Applied Materials发布两款新设备，应对AI芯片3D制造均匀性挑战 面向AI芯片带动下不断升级的3D半导体制造需求，Applied Materials发布Centris Spectral SiN原子层沉积系统和Producer Selectra钼刻蚀系统，重点解决高深宽比结构中的沉积与刻蚀均匀性问题，以降低器件性能与良率风险。
Industry KAIST开发原子级表面调控技术 InP魔法尺寸纳米晶发光效率升至18.1% KAIST新材料工程系研究团队开发出一项针对磷化铟（InP）魔法尺寸纳米晶的原子级表面调控技术，通过选择性刻蚀与表面稳定化处理，将其发光效率从不足1%提升至18.1%。KAIST表示，该成果处于相关领域国际领先水平之列，未来可用于下一代显示、量子通信和红外传感等方向。
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