[디지털투데이 양대규 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 이달부터 가동에 들어간 EUV(극자외선) 전용 반도체 생산라인을 방문해, 시스템 반도체 1위에 대한 의지를 강조했다.

20일 이재용 부회장은 디바이스솔루션(DS) 부문장인 김기남 부회장, 정은승 파운드리사업부장 등과 함께 경기 화성사업장 내 'V1 라인'을 방문했다.

이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에서 시스템 반도체 세계 1등의 비전을 심었다"며 "오늘은 긴 여정의 첫 단추를 끼웠다"고 말했다. 이어 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 덧붙였다.

이 부회장이 이날 방문한 V1라인은 최근 7nm(나노) 이하 반도체 생산에 돌입했다.

삼성전자는 V1라인에서 EUV 노광 공정 기반 7nm부터 새로운 GAA(Gate-All-Around) 기술을 적용한 3nm 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획이다.

V1라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기 완공됐다. 삼성전자는 이 라인에 누적 60억달러(약 7조원)를 투자했다.

삼성전자는 올해 말까지 7nm 이하 제품 생산 규모가 전년보다 약 3배 이상 확대할 것으로 전망한다.

삼성전자는 지난해 4월 화성사업장에서 시스템 반도체에 2030년까지 133조원을 투자하고 1만5천여명을 채용하는 계획을 담은 '반도체 비전 2030'을 발표한 바 있다.

회사 측은 "최첨단 공정 기술을 바탕으로 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로설계) 기업과 협력을 추진하며 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다"며 "V1라인은 4차 산업혁명 시대를 가속화하는 차세대 반도체 생산 핵심기지로서 역할을 할 것으로 기대한다"고 말했다.