어플라이드머티리얼즈(지사장 강인두)는 초고선택비를 제공하는 식각 장비 '어플라이드 프로듀서 셀렉트라'를 출시했다고 30일 밝혔다. 3D 낸드플래시, 핀펫(FinFET) 공정용이다.

식각 선택비는 원하는 화학물질만 정확하게 제거해주는 정도를 뜻한다. 

어플라이드머티리얼즈가 출시한 초고선택비 식각(에칭) 장비 '어플라이드 프로듀서 셀렉트라' 단면. /어플라이드머티리얼즈 제공

시스템 반도체는 10나노 내외, 메모리는 15나노 수준까지 선폭이 미세화 되고, 48층 이상을 쌓는 낸드플래시 기술이 등장하면서 다른 물질에 간섭을 주지 않으면서 특정 성분만 제거하기 점점 까다로워지고 있다. 

화학물 식각(에칭) 공정은 플라즈마를 이용해 형성된 이온이 제거 물질과 결합해 웨이퍼에서 떨어져 나가는 성질을 이용한다. 하지만 이온 생성 과정에서 정전하가 생겨 이온이 침투해야 할 공간을 막거나 수축시킨다. 결과적으로 식각 공정을 거치더라도 제거돼야 할 물질이 제거되지 않고, 남아 있어야 하는 부분이 깎여 나가는 현상이 생긴다. 

식각 과정에서 생기는 이온이 미치는 영향. /어플라이드머티리얼즈 제공

셀렉트라 시스템은 원자 수준의 식각 정밀도를 보인다고 회사측은 설명했다. 다른 물질에 손상을 주지 않으면서 잔여물을 깨끗하게 처리한다. 

샨카 벤카타라만(Shankar Venkataraman) 식각 장비 부문 부사장(박사)은 다층 구조에서 다른 층의 물질을 손상시키지 않고 필요한 물질만 선택적으로 식각하기 어려워 고집적도 칩 생산 수율에 문제가 생긴다"며 "파운드리, 로직, 메모리 업체들 모두 이 장비에 좋은 평가를 보였다"고 말했다. 

 

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